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Wafer du LETI

Wafer du LETI.jpg ThumbnailsManip de multiplexage RVB dans une fibre optiqueThumbnailsManip de multiplexage RVB dans une fibre optiqueThumbnailsManip de multiplexage RVB dans une fibre optiqueThumbnailsManip de multiplexage RVB dans une fibre optique

Illustrations de nanostructures :
Wafer (galette de silicium) sur lequel ont été élaborés au CEA-LETI des émetteurs infrarouges monochromatiques et directionnel dans la bande de longueur d'onde de 4 à 5 µm, à base de des nanostructures métalliques de taille variable. C'est la variation de taille qui donne des effets de réseau et d'irisation.